FAP Plasmatechnik

Durch langjährig erfahrene Mitarbeiter auf dem Gebiet der Hochfrequenztechnik, der Gas-, Mess- und Regeltechnik und der technischen Plasmaanwendung sind wir in der Lage, eine bestmögliche Unterstützung unserer Kunden durch unseren leistungsfähigen Service und den Verkauf von Generatoren und Anpassungen der Hochfrequenz-Leistungstechnik und von Gasflussreglern zu bieten.

HF-Leistungsversorgungen und MFC gehören zu den unmittelbar prozess-bestimmenden peripheren Anlagenkomponenten im Halbleiterprozess. Wir sorgen dafür, dass diese Geräte den Zertifikaten, Kalibrierkurven oder durch eine exakte Abstimmung auf die Maschine, den technischen Vorgaben der Hersteller entsprechen. Mitgelieferte Messprotokolle unterstützen diesen Prozess.

Wir bemühen uns, unsere Kunden bei der Lösung ihrer Aufgaben, innerhalb einer Reaktionszeit von 24h und durch umfassende Hilfestellungen zu unterstützen. Der direkte Austausch mit unseren Geschäftspartnern ist dabei für uns besonders wichtig.

Aus langjähriger Tätigkeit in Forschung und Entwicklung zur Dünnschicht-technologie, Plasma- und Hochfrequenztechnik resultieren unser Know how und unsere Kompetenz auf dem Gebiet der plasmachemischen Gasphasenabscheidung (Plasma-CVD) und der plasmaunterstützten ALD/ ALE (PEALD/PEALE) dünner Schichten für optische, elektronische und mechanische Anwendungen und unsere Erfahrungen im Umgang mit gefährlichen Gasen. Ebenso gehört das Plasmaätzen von Schichten für definierte Oberflächeneigenschaften zu unserem Angebotsspektrum. Die enge Zusammenarbeit mit unseren Kunden zur Realisierung effizienter Technologien zur plasmachemischen Oberflächenbearbeitung ist Grundsatz unseres Unternehmenskonzepts.

Eine  Kooperation mit kompetenten Lieferanten von Anlagen der   Vakuum-Dünnschicht-Technik und relevanten Anlagenkomponenten zählt ebenfalls zu unserem Netzwerk wie auch die enge Zusammenarbeit mit Forschungseinrichtungen und Hochschulen.