3. Auflage der HIPIMS-Konferenz in Sheffield (UK)

Bei der 3. Auflage der Konferenz trafen sich am 19. und 20. Juni 2012 etwa 130 Vertreter aus Industrie und Wissenschaft in Sheffield, United Kingdom, um aktuelle Entwicklungen auf dem Gebiet des Hochleistungs-Impuls-Magnetron-Sputterns (HIPIMS) zu diskutieren.

Namhafte Experten Referenten aus 20 Ländern haben in über 40 Vorträgen bzw. Posterbeiträgen Einsatzmöglichkeiten, aktuelle Forschungsergebnisse und Trends vorgestellt. Ein besonderes Highlight war auch die begleitende Fachausstellung mit einer Reihe namhafter Akteure der HIPIMS-Szene. Die Abendveranstaltung in der historischen Cutlers‘ Hall bot den Konferenzteilnehmern die Möglichkeit zu intensivem Networking in festlichem Rahmen.

HIPIMS ist eine moderne PVD-Technologie, bei der mittels kurzer hochenergetischer Pulse mit Leistungen im Megawattbereich sehr hohe Plasmadichten erzeugt werden. HIPIMS eignet sich sehr gut zur Herstellung beispielsweise von Schichten mit hoher Dichte, hohem Brechungsindex und mit extrem glatten Oberflächen für Anwendungen z.B. in der Auto- oder der Halbleiterindustrie.

 

Die nächste HIPIMS-Konferenz findet am 12. und 13. Juni 2013 in Braunschweig statt.